[发明专利]化学机械抛光方法和装置在审
| 申请号： | 201610824467.7 | 申请日： | 2016-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN106312696A | 公开（公告）日： | 2017-01-11 |
| 发明（设计）人： | 曹阳;王同庆;李昆;路新春 | 申请（专利权）人： | 天津华海清科机电科技有限公司;清华大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B37/10;B24B37/34;B24B53/017;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 300350 天津市津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光方法和装置，所述化学机械抛光方法，包括如下步骤：抛光，供应抛光液，抛光头夹持微晶玻璃并以第一预定压力P1将微晶玻璃止抵于抛光垫上；修整，供应清洗液，修整单元以第二预定压力P2止抵所述抛光垫；其中所述步骤抛光和所述步骤修整交替进行，且在微晶玻璃的抛光周期内，至少包括两次修整。本发明的化学机械抛光方法，通过将整个抛光周期分隔为多个抛光步骤，在相邻的抛光步骤中对抛光垫进行修整，能够有效减少微晶玻璃样品的表面缺陷，降低其表面粗糙度，且能够使微晶玻璃在抛光过程中保持稳定的抛光率，提高产品良率，便于工业化应用。下面描述根据本发明实施例的化学机械抛光方法。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：抛光，供应抛光液，抛光头夹持微晶玻璃并以第一预定压力P1将微晶玻璃止抵于抛光垫上；修整，供应清洗液，修整单元以第二预定压力P2止抵所述抛光垫；其中所述步骤抛光和所述步骤修整交替进行，且在微晶玻璃的抛光周期内，至少包括两次修整。
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