[发明专利]磁存储器有效
申请号: | 201610811820.8 | 申请日: | 2016-09-09 |
公开(公告)号: | CN106875969B | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 与田博明;下村尚治;大泽裕一;大坊忠臣;井口智明;白鸟聪志;山百合;上口裕三 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G11C11/16 | 分类号: | G11C11/16 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 金春实 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及磁存储器,具备:导电层,具有第1端子及第2端子;多个磁阻元件,相互间隔地配置于所述第1端子与所述第2端子之间的所述导电层,各磁阻元件具有参照层、配置于所述参照层与所述导电层之间的存储层以及配置于所述存储层与所述参照层之间的非磁性层;以及电路,对所述多个磁阻元件的所述参照层施加第1电位,并且使第1写入电流在所述第1端子与第2端子之间流过,对所述多个磁阻元件中的应该写入数据的磁阻元件的所述参照层施加第2电位并且使与所述第1写入电流反向的第2写入电流在所述第1端子与第2端子之间流过。 | ||
搜索关键词: | 磁存储器 | ||
【主权项】:
1.一种磁存储器,具备:导电层,具有第1端子及第2端子;多个磁阻元件,相互间隔地配置于所述第1端子与所述第2端子之间的所述导电层,各磁阻元件具有参照层、配置于所述参照层与所述导电层之间的存储层以及配置于所述存储层与所述参照层之间的非磁性层;以及电路,在第1写入阶段,对所述多个磁阻元件的所述参照层施加第1电位,并且使第1写入电流在所述第1端子与第2端子之间流过,在第2写入阶段,对所述多个磁阻元件中的应该写入数据的磁阻元件的所述参照层施加第2电位并且使与所述第1写入电流反向的第2写入电流在所述第1端子与第2端子之间流过。
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