[发明专利]后处理系统中的异步还原剂插入件

摘要

一种后处理系统，包括第一SCR系统、位于上述SCR系统下游的第二SCR系统和还原剂贮罐。至少一个还原剂插入组件流体耦联到还原剂贮罐。上述至少一个还原剂插入组件还流体耦联到第一SCR系统和第二SCR系统。控制器可通信地耦联到还原剂插入组件。控制器配置成指示还原剂插入组件异步地将还原剂插入到第一SCR系统和第二SCR系统。

主权项

1.一种后处理系统，其特征在于，包括：第一选择性催化还原系统；第二选择性催化还原系统，所述第二选择性催化还原系统位于所述第一选择性催化还原系统的下游；还原剂贮罐；至少一个还原剂插入组件，所述至少一个还原剂插入组件流体地与所述还原剂贮罐相耦联，所述至少一个还原剂插入组件流体地与所述第一选择性催化还原系统和所述第二选择性催化还原系统相耦联；以及控制器，所述控制器可通信地耦联到所述还原剂插入组件，所述控制器包括定时确定模块，配置成指示所述还原剂插入组件将第一量的还原剂在第一输送时间插入到所述第一选择性催化还原系统和将第二量的还原剂在第二输送时间插入到所述第二选择性催化还原系统，使得所述控制器在给定时间内仅插入到所述第一选择性催化还原系统或所述第二选择性催化还原系统的一个，其中所述第一输送时间等于所述第二输送时间和/或所述第一量等于所述第二量。