[发明专利]基于图像互相关匹配的电光晶体光轴出露点提取方法有效

专利信息
申请号: 201610786512.4 申请日: 2016-08-31
公开(公告)号: CN106407987B 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 李东;姜宏振;刘勇;刘旭;郑芳兰;张霖;巴荣声;杨一;陈波;杨晓瑜;柴立群 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: G06K9/46 分类号: G06K9/46
代理公司: 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 代理人: 徐金琼
地址: 621900*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于图像互相关匹配的电光晶体光轴出露点提取方法,属于光学精密检测技术领域,解决利用偏光干涉图确定电光晶体的光轴方向方法中光轴出露点的提取精度差的问题。本发明具体如下:获得偏光干涉图I,模拟得到合适的初始特征模板T0;对初始特征模板T0进行几何变换,获得不同大小不同旋转角度下的一系列特征模板图像Tmn;将特征模板Tmn分别和偏光干涉图I进行图像互相关匹配运算,用相关系数rmn(x,y)定量特征模板Tmn和偏光干涉图I的相关程度,经过图像互相关匹配运算,得到在特征模板Tmn下的最大相关系数rmn‑max和最大相关系数的位置坐标(xmn,ymn);并选取最大相关系数rmn‑max中的最大值rmax的位置坐标(xmax,ymax)作为光轴出露点的位置坐标。
搜索关键词: 基于 图像 互相 匹配 电光 晶体 光轴 露点 提取 方法
【主权项】:
一种基于图像互相关匹配的电光晶体光轴出露点提取方法,其特征在于,具体如下:(1)获得偏光干涉图I;(2)根据偏光干涉原理,通过模拟仿真得到合适的初始特征模板T0;(3)对模拟仿真得到的初始特征模板T0以一系列不同的缩放比率Sn、不同旋转角度θm进行几何变换,获得不同大小、不同旋转角度下的特征模板图像Tmn;(4)将经过几何变换后得到的所有特征模板Tmn分别和偏光干涉图I进行图像互相关匹配运算,用相关系数rmn(x,y)定量特征模板Tmn和偏光干涉图I的相关程度,经过图像互相关匹配运算,得到所有特征模板Tmn下的最大相关系数rmn‑max和最大相关系数的位置坐标(xmn,ymn);(5)选取最大相关系数rmn‑max中的最大值rmax,将最大值rmax位置坐标(xmax,ymax)作为光轴出露点的位置坐标。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心,未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610786512.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top