[发明专利]一种深紫外带通滤光片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610771577.1 申请日: 2016-08-31
公开(公告)号: CN107783218B 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 汤兆胜 申请(专利权)人: 上海兆九光电技术有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G02B5/26
代理公司: 北京贵都专利代理事务所(普通合伙) 11649 代理人: 李新锋
地址: 201613 上海市松江*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种深紫外带通滤光片结构,其中,包括基底以及通过电子束蒸发镀膜法形成于基底上的第一薄膜堆、第二薄膜堆;第一薄膜堆包括依次交替镀制的数个HfO2薄膜层与数个SiO2薄膜层;第二薄膜堆包括依次交替镀制的数个Al2O3薄膜层与数个SiO2薄膜层;第二薄膜堆设于第一薄膜堆顶部。本发明提供的一种深紫外带通滤光片利用多次反射方法将具有高反射率的深紫外波段有效提取出来,而对具有低反射率的可见区和近红外波段进行有效的抑制。滤光片结构包括2片或2片以上的反射平板组成,入射光束经过2次或2次以上反射后输出。相比传统的紫外滤光片,本发明的滤光片具有紫外波段的透过率高,截止范围宽以及截止深度深等优点。
搜索关键词: 一种 深紫 外带 滤光 及其 制备 方法
【主权项】:
一种深紫外带通滤光片,其特征在于,包括基底以及通过电子束蒸发镀膜法形成于所述基底上的第一薄膜堆、第二薄膜堆;所述第一薄膜堆包括依次交替镀制的数个HfO2薄膜层与数个SiO2薄膜层;所述第二薄膜堆包括依次交替镀制的数个Al2O3薄膜层与数个SiO2薄膜层;所述第二薄膜堆设于所述第一薄膜堆顶部。
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