[发明专利]一种深紫外带通滤光片及其制备方法

说明书

本发明公开了一种深紫外带通滤光片结构，其中，包括基底以及通过电子束蒸发镀膜法形成于基底上的第一薄膜堆、第二薄膜堆；第一薄膜堆包括依次交替镀制的数个HfO₂薄膜层与数个SiO₂薄膜层；第二薄膜堆包括依次交替镀制的数个Al₂O₃薄膜层与数个SiO₂薄膜层；第二薄膜堆设于第一薄膜堆顶部。本发明提供的一种深紫外带通滤光片利用多次反射方法将具有高反射率的深紫外波段有效提取出来，而对具有低反射率的可见区和近红外波段进行有效的抑制。滤光片结构包括2片或2片以上的反射平板组成，入射光束经过2次或2次以上反射后输出。相比传统的紫外滤光片，本发明的滤光片具有紫外波段的透过率高，截止范围宽以及截止深度深等优点。

技术领域

本发明涉及滤光片的镀制工艺，具体涉及一种深紫外带通滤光片及其制备方法。

背景技术

在200纳米-350纳米这一波段通常被称为深紫外波段，这一波段的光被广泛应用于净水厂、医院、工厂无尘车间的空气杀菌、处理甲醛、荧光激发、日盲探测、紫外光谱仪、气体探测等领域。但是现有的技术中想要获得纯净的深紫外波段的能量并非易事，尤其涉及到300纳米以下，甚至在200纳米附近的波段，因为自然界在这一波段透明的材料非常有限，但深紫外波段所需要的领域很广泛并且有必要，所以研究出能够实现获得纯净的深紫外波段的能量是非常有必要的。现有技术中存在一种途径获得深紫外波段的方法是采用金属铝和介质混合型膜层组合并通过诱导的方法来实现200纳米-280纳米附近的带通特性，但这种诱导型的滤光片由于含有金属膜，金属膜对光的吸收比较严重，所以在通带的透过率很低，一般在30％以下。如果要获得通带以外0.01％以下的截止深度时，透过率会更低，只能达到10％左右。这对于有能量大小要求又需要良好的抗干扰的应用场合无法满足。另一种途径是通过全介质的镀膜对深紫外波段实现高透，对可见光以下到深紫外交界的区域实现截止。这种方法对深紫外区的透过率是有极大的提升，但截止范围非常有限，最多只能截止到可见光区，而且镀膜的难度是异常的高，没有太多的应用价值。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种深紫外带通滤光片，能够通过入射光束多次反射的方法将具有高反射率的深紫外波段有效提取出来，而对具有低反射率的可见区和近红外波段进行有效的抑制，同时滤光片结构包括2片或2片以上的反射平板组成，光线经过2次或2次以上反射后输出，从而获取高透过率的深紫外波段的能量，用以解决现有技术导致的缺陷。为此，本发明还提供该深紫外带通滤光片的制备方法。

为解决上述技术问题本发明提供以下的技术方案：一种深紫外带通滤光片，其中，包括基底以及通过电子束蒸发镀膜法形成于所述基底上的第一薄膜堆、第二薄膜堆；

所述第一薄膜堆包括依次交替镀制的数个HfO₂薄膜层与数个SiO₂薄膜层；

所述第二薄膜堆包括依次交替镀制的数个Al₂O₃薄膜层与数个SiO₂薄膜层；

所述第二薄膜堆设于所述第一薄膜堆顶部。

上述的一种深紫外带通滤光片，其中，所述基底为玻璃基底。

上述的一种深紫外带通滤光片，其中，所述第一薄膜堆包括依次通过电子束蒸发镀膜法交替镀制的数个HfO₂薄膜层与数个SiO₂薄膜层；所述第二薄膜堆包括依次通过电子束蒸发镀膜法交替镀制的数个Al₂O₃薄膜层与数个SiO₂薄膜层。

上述的一种深紫外带通滤光片，其中，所述第一薄膜堆包括依次通过电子束蒸发镀膜法交替镀制的等数量HfO₂薄膜层与SiO₂薄膜层；所述第二薄膜堆包括依次通过电子束蒸发镀膜法交替镀制的等数量Al₂O₃薄膜层与SiO₂薄膜层。