[发明专利]一种真空设备的基板加热台有效
申请号: | 201610763502.9 | 申请日: | 2016-08-30 |
公开(公告)号: | CN106119811B | 公开(公告)日: | 2018-10-12 |
发明(设计)人: | 周毅;刘国利;刘志勇;李国强 | 申请(专利权)人: | 湖南玉丰真空科学技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 411100 湖南省湘潭*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 一种真空设备的基板加热台。它主要是解决现有工艺繁琐、生产效率低和产品质量不稳定等技术问题。其技术方案要点是:包括加热平板(1)、加热底板(2)、加热台支柱(3)、镀膜挡板(7)、屏蔽板框(8)、电极引入件(9)、辅助加热器(10)、外圈加热器(11)、内圈加热器(12)和升降架(13),所述加热台支柱(3)上依次设有加热平板(1)和加热底板(2),加热平板(1)和加热底板(2)中间设有外圈加热器(11)和内圈加热器(12),四周设有辅助加热器(10),加热平台一侧连接有电极引入件(9),所述加热平台周围设有屏蔽板框(8)。它主要是应用于真空玻璃生产和制备。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空设备 加热 | ||
【主权项】:
1.一种真空设备的基板加热台,其特征是:它包括加热平板(1)、加热底板(2)、加热台支柱(3)、中屏蔽板(4)、屏蔽板支柱(5)、镀膜挡板(7)、屏蔽板框(8)、电极引入件(9)、辅助加热器(10)、外圈加热器(11)、内圈加热器(12)和升降架(13),所述加热台支柱(3)、屏蔽板支柱(5)和屏蔽板框(8)安装在真空设备的腔室(14)上,所述屏蔽板支柱(5)高度小于加热台支柱(3),且设有中屏蔽板(4);所述加热台支柱(3)上依次设有加热平板(1)和加热底板(2),加热平板(1)和加热底板(2)中间设有外圈加热器(11)和内圈加热器(12),四周设有辅助加热器(10),形成一个加热平台,加热平台一侧连接有电极引入件(9),所述加热平台周围设有屏蔽板框(8),屏蔽板框(8)上设有镀膜挡板(7),所述加热平板(1)的下面设有弧形底凹槽,弧形底凹槽分设有外圈加热器槽和中间加热器槽,外圈加热器(11)和内圈加热器(12)分别安放在外圈加热器槽和中间加热器槽中,外圈加热器槽分两圈均布在加热平板(1)下面周边,中间加热器槽呈蛇形状均布在加热平板(1)中间区域。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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