[发明专利]一种钕铁硼磁体的氢破碎方法有效
| 申请号： | 201610757825.7 | 申请日： | 2016-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN106328333B | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 孙海涛 | 申请（专利权）人： | 京磁材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01F1/057 | 分类号： | H01F1/057;H01F41/02 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 101300*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种钕铁硼磁体的氢破碎方法，包括以下步骤，在氢气的条件下将钕铁硼半成品进行不完全吸氢反应，再抽真空进行加热脱氢反应后，得到钕铁硼原料细粉。本发明在钕铁硼磁体制备过程的众多步骤中，从氢破碎步骤入手，采用不完全吸氢代替传统的吸氢方法，在过程中控制氢气未与Nd2Fe14B相和富Nd相反应完全时，可选择性终止氢气的导入，使反应没有进行彻底，未裂开的主相与富Nd相在后续的制造过程中不会发生开裂，不会破碎成单晶体，在不影响剩磁(Br)的基础上，通过控制磁感矫顽力(Hcb)，最终达到控制回复磁导率(Br/Hcb)的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 钕铁硼 磁体 破碎 方法 | ||
【主权项】：
1.一种钕铁硼磁体的氢破碎方法，其特征在于，包括，A)在氢气的条件下将钕铁硼半成品进行不完全吸氢反应，再抽真空进行加热脱氢反应后，得到钕铁硼原料细粉；所述不完全吸氢反应的压力为0.066～0.098MPa；所述不完全吸氢反应的时间为完全吸氢反应的时间的25％～75％；所述不完全吸氢反应过程中，氢气气源的压力下降速率大于等于0.06MPa/min时，停止反应。
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