[发明专利]一种低敏感型聚羧酸保坍剂及其制备方法有效
申请号: | 201610741628.6 | 申请日: | 2016-08-26 |
公开(公告)号: | CN106366253B | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 代柱端;方云辉;蒋卓君;官梦芹;陈小路 | 申请(专利权)人: | 科之杰新材料集团有限公司 |
主分类号: | C08F283/06 | 分类号: | C08F283/06;C08F220/06;C08F220/28;C04B24/26;C04B103/30 |
代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人: | 张松亭;姜谧 |
地址: | 361000 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: |
本发明公开了一种低敏感型聚羧酸保坍剂及其制备方法,其有效成分的结构式如下: |
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搜索关键词: | 一种 敏感 羧酸 保坍剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种低敏感型聚羧酸保坍剂,其特征在于:其有效成分的结构式如下:
其原料包括分子量为2000~4000的单体、不饱和酸、不饱和酸钠、不饱和酯、氧化剂、还原剂和分子量调节剂,不饱和酸、不饱和酸钠和不饱和酯的质量比为1∶0.3~0.5∶1.3~4,氧化剂为单体、不饱和酸、不饱和酸钠和不饱和酯的总质量的0.3~1.2%,还原剂为单体、不饱和酸、不饱和酸钠和不饱和酯的总质量的0.2~0.8%,分子量调剂为单体、不饱和酸、不饱和酸钠和不饱和酯的总质量的0.5~0.9%,其中,单体的结构式为:
不饱和酸的结构式为:R6‑HC=CH‑COOH,不饱和酸钠的结构式为:R6‑HC=CH‑COONa,不饱和酯的结构式为:R4‑HC=CH‑COOR5,R1、R2、R3、R4和R6分别为H或CH3,R5为CH3、CH2CH3、CH2OH和CH2CH2OH中的至少一种。
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