[发明专利]具有增强的能量范围的柱后过滤器有效
申请号: | 201610729771.3 | 申请日: | 2016-08-26 |
公开(公告)号: | CN106653537B | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | A.亨斯特拉;P.C.蒂伊梅杰 | 申请(专利权)人: | FEI公司 |
主分类号: | H01J37/26 | 分类号: | H01J37/26;H01J37/28 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 申屠伟进;张涛 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开具有增强的能量范围的柱后滤波器。本发明涉及针对(扫描)透射电子显微镜((S)TEM)的柱后过滤器(PCF)。传统上,这些过滤器使用在EFTEM和EELS模式二者中同样的在狭缝平面之前的光学元件的激发。尽管这便于本领域中的技术人员开发和调谐PCF的任务,由于其将自由度数目减少到可管理的数量。发明人发现用来确定针对EELS模式的狭缝平面之前的光学元件的设置,其与EFTEM模式不同,并且其中PCF在EELS模式中的性能改进(特别地是可以被成像的相对能量范围),而没有使PCF在EFTEM模式中的性能降级。 | ||
搜索关键词: | 具有 增强 能量 范围 过滤器 | ||
【主权项】:
1.一种操作透射电子显微镜或扫描透射电子显微镜中的柱后过滤器PCF的方法,PCF(200)装备成操作在第一模式中,所述第一模式即其中形成电子能量损失谱EELS频谱的所谓EELS模式,所述EELS频谱示出能量范围,或者PCF装备成操作在第二模式中,所述第二模式即其中形成能量过滤的透射电子显微镜EFTEM图像的所谓EFTEM模式,并且PCF包括以下光学平面:· 入射平面(204),· 其中在EELS模式中形成EELS频谱并且在EFTEM模式中形成EFTEM图像的图像平面(206),· 在入射平面和图像平面之间的狭缝平面(208),其中在EFTEM模式中形成能量散射焦点,PCF包括布置在光轴(202)周围的以下光学元件:· 在入射平面与狭缝平面之间的能量散射元件(M),能量散射元件将射入的电子射束散射在能量散射射束中,· 在能量散射元件与狭缝平面之间的一个或多个狭缝前四极(Q2、Q3),· 在狭缝平面与图像平面之间的众多狭缝后四极(Q4、Q5、Q6、Q7),用于校正像差的众多多极,以及· 在EFTEM模式中被插入狭缝平面中的能量选择性狭缝(S),在入射平面与狭缝平面之间的光学元件在EFTEM模式中在狭缝平面中形成能量散射焦点;并且在能量散射元件和狭缝平面之间的一个或多个狭缝前四极在EFTEM模式中放大由能量散射元件所引起的能量散射,所述方法的特征在于,在EELS模式中,在能量散射元件和狭缝平面之间的一个或多个狭缝前四极不放大由能量散射元件所引起的能量散射。
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