[发明专利]用于在线制备弱光栅阵列的弯曲不敏感光敏光纤及制备方法有效
| 申请号： | 201610695576.3 | 申请日： | 2016-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN106249347B | 公开（公告）日： | 2020-12-22 |
| 发明（设计）人： | 郭会勇;王立新;余海湖;唐健冠;李小甫 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 许美红 |
| 地址： | 430070 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于在线制备弱光栅阵列的弯曲不敏感光敏光纤及制备方法，该光纤的类型为掺锗型，折射率分布类型为阶跃型，光纤的芯层中掺入锗的重量百分比含量为6.5％‑9％，芯层折射率相对于包层增加值为0.5％‑0.7％，光纤的弯曲损耗小于0.1dB。本发明能很好地满足单激光脉冲刻写反射率0.1％‑2％的弱光栅阵列，能用于大容量、长距离传感阵列。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 在线 制备 弱光 阵列 弯曲 敏感 光敏 光纤 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在线制备弱光栅阵列的弯曲不敏感光敏光纤，其特征在于，该光纤的类型为掺锗型，折射率分布类型为阶跃型，光纤的芯层中掺入锗的重量百分比含量为6.5％‑9％，芯层折射率相对于包层增加值为0.5％‑0.7％，光纤的弯曲损耗小于0.1dB。
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