[发明专利]具有键合至产酸剂的感光剂的新光刻胶有效
申请号: | 201610669564.3 | 申请日: | 2016-08-15 |
公开(公告)号: | CN106527046B | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
发明(设计)人: | 陈彦豪;王建惟 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;H01L21/027 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李伟 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明涉及光刻胶以及使用光刻胶实施光刻工艺的方法。光刻胶包括聚合物以及光生酸剂。光生酸剂包括感光剂组分、产酸剂组分和键合所述感光剂组分与所述产酸剂组分的键合组分。键合组分可为单键或共轭键。光刻工艺可为EUV光刻工艺或电子束光刻工艺。本发明涉及一种具有键合至产酸剂的感光剂的新光刻胶。 | ||
搜索关键词: | 具有 键合至产酸剂 感光剂 光刻 | ||
【主权项】:
一种光刻胶,包括聚合物;以及光生酸剂,包括:感光剂组分;产酸剂组分;以及键合组分,将所述感光剂组分键合至所述产酸剂组分。
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