[发明专利]一种线条粗糙度的测量方法及系统有效
| 申请号： | 201610645840.2 | 申请日： | 2016-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN106352820B | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 张利斌;韦亚一 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G01B15/08 | 分类号： | G01B15/08 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 党丽;王宝筠 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种线条粗糙度的测量方法及系统，确定多个像素阈值，并获得每个像素阈值下的边缘分布，在对边缘分布进行分析后，获得每个像素阈值下的线条粗糙度，通过对所有像素阈值下的线条粗糙度进行比较，选择线条粗糙度连续变化时的最小值作为待测结构的线条粗糙度。在该方法中，采用多像素阈值的方法，每次测试中对所有像素阈值下的线条粗糙度进行比较，选择线条粗糙度连续变化时的最小值作为待测结构的线条粗糙度，该线条粗糙度为最佳像素阈值下的测量值，测试结果更具有准确性，对于不同批次产品的测量，最佳像素阈值下的测量值为动态获得的，测试结果具有准确性和稳定性，能够真实反映刻蚀工艺是否达标，利于提高产品的良率和性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 线条 粗糙 测量方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种线条粗糙度的测量方法，其特征在于，包括：S01，获得待测结构中一维方向图案的扫描电子显微图像；S02，获得扫描电子显微图像中一维方向图案的宽度方向上的灰度分布；S03，根据灰度分布，确定多个像素阈值；S04，在扫描电子显微图像上分别确定每个像素阈值下一维方向图案的边缘分布；S05，对边缘分布进行分析，以分别获得每个像素阈值下的线条粗糙度；S06，对所有像素阈值下的线条粗糙度进行比较，选择线条粗糙度连续变化时的最小值作为待测结构的线条粗糙度。
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