[发明专利]一种低表面浓度可组装p‑n结晶体硅太阳能电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201610644640.5 申请日: 2016-08-08
公开(公告)号: CN106057982B 公开(公告)日: 2018-02-27
发明(设计)人: 石强;秦崇德;方结彬;黄玉平;何达能;陈刚 申请(专利权)人: 广东爱旭科技股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 佛山市中迪知识产权代理事务所(普通合伙)44283 代理人: 张伶俐
地址: 528100 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种低表面浓度可组装p‑n结晶体硅太阳能电池的制备方法,包括如下步骤1)在P型硅上表面进行制绒;2)在制绒完毕的P型硅表面制备若干层N型纳米硅薄膜,并依次层叠覆盖在P型硅表面;3)对覆盖有若干层N型纳米硅薄膜的P型硅进行退火处理;4)制备减反膜;5)在P型硅下表面制备背电极、背电场;6)在N型纳米硅薄膜上表面制作正电极。与现有技术相比本发明的方法,p‑n结采用在P型硅上覆盖多层N型纳米硅薄膜的方法制备,p‑n结的结深通过N型纳米硅薄膜的层数来控制,且N型纳米硅薄膜的表面浓度低且可控,这样制备的p‑n具有表面浓度低、结深可控,可以大大提高p‑n结的质量,提高电池的转换效率。
搜索关键词: 一种 表面 浓度 组装 结晶体 太阳能电池 制备 方法
【主权项】:
一种低表面浓度可组装p‑n结晶体硅太阳能电池的制备方法,其特征在于包括如下步骤:1)在P型硅上表面进行制绒;2)在制绒完毕的P型硅表面制备40‑300层N型纳米硅薄膜,40‑300层N型纳米硅薄膜依次层叠覆盖在P型硅表面,N型纳米硅薄膜边长小于P型硅边长;3)对覆盖有40‑300层N型纳米硅薄膜的P型硅进行退火处理;4)制备减反膜,减反膜将40‑300层N型纳米硅薄膜和P型硅表面没被N型纳米硅薄膜覆盖的部分全部覆盖;5)在P型硅下表面制备背电极、背电场;6)在N型纳米硅薄膜上表面制作正电极。
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