[发明专利]成像装置和电子设备有效

专利信息
申请号: 201610639444.9 申请日: 2012-02-23
公开(公告)号: CN106067468B 公开(公告)日: 2019-09-13
发明(设计)人: 柳田刚志;押山到;榎本贵幸;池田晴美;伊泽慎一郎;山本敦彦;太田和伸 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 曹正建;陈桂香
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种成像装置和电子设备,可以提供诸如光学混色减少等特性改善的成像装置。此外,提供了使用所述成像装置的电子设备。在具有基板(12)和在基板(12)上形成的多个光电转换部(40)的固态成像装置中,形成有绝缘膜(21)埋入其中的元件隔离部(19)。元件隔离部(19)由具有固定电荷的绝缘膜(20)构成,所述绝缘膜形成为包覆沟部(30)的内壁面,所述沟部(30)从基板(12)的光入射侧在深度方向上形成。
搜索关键词: 成像 装置 电子设备
【主权项】:
1.一种成像装置,包括:基板;第一光电转换部和第二光电转换部,包括在所述基板中;以及沟部,沿所述基板的深度方向设置在所述第一光电转换部和所述第二光电转换部之间,其中,所述沟部包括空隙结构、第一绝缘膜和第二绝缘膜,在横截面上所述第二绝缘膜设置在所述第一绝缘膜和所述空隙结构之间,所述第一绝缘膜设置在所述基板的位于相邻沟部之间的背面部分上,并且所述第一绝缘膜包括氧化物或氮化物材料中的至少一种,所述氧化物或氮化物材料包括以下元素中的至少一者:铪(Hf)、铝(Al)、锆(Zr)、钽(Ta)、钛(Ti)、镧(La)、镨(Pr)、铈(Ce)、钕(Nd)、钷(Pm)、钐(Sm)、铕(Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铥(Tm)、镱(Yb)、镥(Lu)和钇(Y)。
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