[发明专利]发光器件的制备方法与发光器件在审
| 申请号： | 201610628415.2 | 申请日： | 2016-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN106206871A | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 甄常刮;杜勇;彭军军 | 申请（专利权）人： | 纳晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/50 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 赵囡囡;吴贵明 |
| 地址： | 310052 浙江省杭州市滨*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本申请提供了发光器件的制备方法与发光器件。该发光器件的制备方法包括：步骤S1，提供基板，基板上设置有多个像素隔离结构和电致发光结构的第一电极，相邻的像素隔离结构之间具有子像素区域，在各子像素区域上设置电致发光结构的发光层和第二电极，其中，发光层和第二电极依次远离基板设置，第二电极为出光电极；步骤S2，采用喷墨打印法在至少一个第二电极的远离对应的发光层的表面上设置量子点墨水，并固化形成至少一个光转换层。该方法避免了采用光刻法造成的材料浪费的问题，简化了发光器的制备过程，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 器件 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种发光器件的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：步骤S1，提供基板，所述基板上设置有多个像素隔离结构和电致发光结构的第一电极，相邻的所述像素隔离结构之间具有子像素区域，在各所述子像素区域上设置所述电致发光结构的发光层和第二电极，其中，所述发光层和所述第二电极依次远离所述基板设置，所述第二电极为出光电极；以及步骤S2，采用喷墨打印法在至少一个所述第二电极的远离对应的所述发光层的表面上设置量子点墨水，并固化形成至少一个光转换层。
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