[发明专利]一种曝光装置及方法有效
| 申请号： | 201610617029.3 | 申请日： | 2016-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN107664924B | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 陈勇辉;蓝科;陈文枢;戈亚萍 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光装置及方法，该装置包括柔性基底和用于传输和固定所述柔性基底的卷对卷传输系统，还包括关于所述柔性基底轴向对称的正面曝光系统和背面曝光系统、分别与所述柔性基底的正面和背面对应的测量系统、以及分别与所述卷对卷传输系统、正面曝光系统、背面曝光系统、测量系统连接的主控制系统。通过设置正面曝光系统和背面曝光系统分别对柔性基底中的正面和背面分别进行曝光，不仅提了曝光效率，同时在正面曝光系统和背面曝光系统中分别设置两个不同的曝光系统实现对柔性基底上不同的曝光图形的粗曝光和修正曝光，可适应不同的形变量，大大提高曝光精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
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