[发明专利]一种曝光装置及方法有效
申请号: | 201610617029.3 | 申请日: | 2016-07-29 |
公开(公告)号: | CN107664924B | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 陈勇辉;蓝科;陈文枢;戈亚萍 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 曝光 装置 方法 | ||
1.一种曝光装置,包括柔性基底和用于传输和固定所述柔性基底的卷对卷传输系统,其特征在于,还包括关于所述柔性基底轴向对称的正面曝光系统和背面曝光系统、分别与所述柔性基底的正面和背面对应的测量系统、以及分别与所述卷对卷传输系统、正面曝光系统、背面曝光系统、测量系统连接的主控制系统;
所述正面曝光系统包括第一曝光系统和第二曝光系统,所述背面曝光系统包括第三曝光系统和第四曝光系统,其中,所述第一曝光系统和第三曝光系统相对所述柔性基底轴向对称,两者分别固定于第一支撑组件和第二支撑组件上,所述第二曝光系统和第四曝光系统关于所述柔性基底轴向对称,两者分别设于第一运动组件和第二运动组件上,在所述第一运动组件和第二运动组件带动下沿水平方向进行扫描和步进运动;
所述柔性基底的正面和背面均包括第二层精曝光图形和第二层粗曝光图形,正面的所述第二层精曝光图形用于对正面的所述第二层粗曝光图形进行曝光图形修正,背面的所述第二层精曝光图形用于对背面的所述第二层粗曝光图形进行曝光图形修正,所述第一曝光系统用于对正面的第二层粗曝光图形进行曝光,所述第二曝光系统用于对正面的第二层精曝光图形进行曝光,所述第三曝光系统用于对背面的第二层粗曝光图形进行曝光,所述第四曝光系统用于对背面的第二层精曝光图形进行曝光。
2.根据权利要求1所述曝光装置,其特征在于,所述卷对卷传输系统包括左右对称设置的放卷辊和收卷辊,所述柔性基底的一端卷绕在所述放卷辊上,另一端卷绕在所述收卷辊上。
3.根据权利要求1所述曝光装置,其特征在于,所述第一曝光系统和第三曝光系统包括沿光路依次设置的第一光源、第一传输光纤、第一照明组件、整形组件、扩束组件、扫描振镜组件和场镜,所述第一光源发出的光束经过第一传输光纤入射到第一照明组件上,然后经过整形组件整形成曝光所需光斑,之后经过扩束组件扩束后入射到扫描振镜组件上,最后经过所述场镜聚焦到柔性基底上。
4.根据权利要求3所述曝光装置,其特征在于,所述第一光源为LD光源或LED光源。
5.根据权利要求3所述曝光装置,其特征在于,所述整形组件为微透镜阵列。
6.根据权利要求1所述曝光装置,其特征在于,所述第一曝光系统和第三曝光系统包括沿光路依次设置的第一光源、扩束组件、整形组件、扫描振镜组件和场镜;所述第一光源发出准直光束经过扩束组件调整光束直径后,进入整形组件整形成所需光斑。
7.根据权利要求6所述曝光装置,其特征在于,所述整形组件为DOE或ROE组件。
8.根据权利要求1所述曝光装置,其特征在于,所述第一曝光系统和第三曝光系统包括沿光路依次设置第一光源、扩束组件、整形组件、调焦镜头、物镜和扫描振镜组件,所述第一光源输出准直光束经过扩束组件调整光束直径后,进入整形组件后整形成所需光斑,接着经过调焦镜头对整个视场各视场点位置进行调焦,最后经过物镜成像后,通过扫描振镜组件反射至焦平面上,对柔性基底进行曝光。
9.根据权利要求6或8所述曝光装置,其特征在于,所述第一光源为激光光源。
10.根据权利要求3或6或8所述曝光装置,其特征在于,所述扫描振镜组件为二维扫描振镜。
11.根据权利要求3或6或8所述曝光装置,其特征在于,所述光斑为矩形光斑,且光斑尺寸与曝光图形的线宽一致。
12.根据权利要求1所述曝光装置,其特征在于,所述第二曝光系统和第四曝光系统包括沿光路依次设置的第二光源、第二传输光纤、第二照明系统、匀光组件、DMD组件和投影镜组,所述第二光源发出光束经过第二传输光纤进入第二照明系统,之后经过匀光组件进行匀光,并经过DMD组件进行调制后经过投影镜组投影产生曝光所需的光斑。
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