[发明专利]一种HVPE设备用镓舟反应器有效
| 申请号: | 201610611553.X | 申请日: | 2016-07-30 |
| 公开(公告)号: | CN106191989B | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
| 发明(设计)人: | 赵红军;刘鹏;朱定正;张国义 | 申请(专利权)人: | 东莞市中镓半导体科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/20 | 分类号: | H01L21/20;H01L33/00;C23C16/44;C30B25/08 |
| 代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 罗晓林 |
| 地址: | 523000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 一种HVPE设备用镓舟反应器,包括进气管、圆筒形侧壁、底部和顶盖,所述底部与圆筒形侧壁连接成一个容器;所述顶盖连接于圆筒形侧壁上;所述进气管穿设于顶盖或圆筒形侧壁上;所述容器上设有出气管;所述进气管包括进气连接管和螺旋喷管,所述螺旋喷管包括螺旋喷管入口、螺旋喷管管壁和螺旋喷管出口,所述进气管与螺旋喷管入口连接,所述螺旋喷管位于容器内。本发明提供的一种HVPE设备用镓舟反应器,可增加反应气体在反应器内的停留时间,也能均衡反应气体与金属镓的反应速度。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 hvpe 备用 反应器 | ||
【主权项】:
1.一种HVPE设备用镓舟反应器,包括进气管(1)、圆筒形侧壁(2)、底部(3)和顶盖(4),所述底部(3)与圆筒形侧壁(2)连接成一个容器;所述顶盖(4)连接于圆筒形侧壁(2)上;所述进气管(1)穿设于顶盖(4)或圆筒形侧壁(2)上;所述容器上设有出气管(5);所述进气管(1)包括进气连接管(11)和螺旋喷管(12),所述进气连接管(11)与容器连接,所述进气连接管(11)与螺旋喷管入口(121)连接,所述螺旋喷管(12)包括螺旋喷管入口(121)、螺旋喷管管壁(122)和螺旋喷管出口(124),所述螺旋喷管(12)位于容器内;所述螺旋喷管(12)沿容器内壁圆周方向向下倾斜延伸,并且该螺旋喷管出口(124)位于容器底面上方;所述螺旋喷管出口(124)直径小于螺旋喷管入口(121)直径;其特征在于,所述螺旋喷管管壁(122)上设有由螺旋喷管入口(121)朝向螺旋喷管出口(124)倾斜的螺旋喷管吸附入口(123),并且该螺旋喷管吸附入口(123)方向与螺旋喷管入口(121)方向形成的夹角为锐角。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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