[发明专利]具有毫米行程的单轴纳米位移执行器有效
申请号: | 201610604810.7 | 申请日: | 2016-07-28 |
公开(公告)号: | CN106301065B | 公开(公告)日: | 2018-08-31 |
发明(设计)人: | 高思田;徐胜;李琪 | 申请(专利权)人: | 中国计量科学研究院 |
主分类号: | H02N2/02 | 分类号: | H02N2/02;H02N2/04 |
代理公司: | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人: | 滑春生;赵永伟 |
地址: | 100013 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种具有毫米行程的单轴纳米位移执行器,在其直线导向底座的一侧设有梯形凹槽,在该梯形凹槽的两个斜面上设有两对剪切压电陶瓷叠堆,在剪切压电陶瓷叠堆的顶端设有光滑支撑块,在该直线导向底座与直线运动负载台之间设有相互吸引的磁力预紧机构;所述的直线运动负载台的截面为与该梯形凹槽配合的梯形台,该梯形台的两个斜面与所述的光滑支撑块顶端接触,该直线运动负载台与该直线导向底座之间通过磁力预紧机构的磁力相互吸引定位。本发明的优点是:采用磁力预紧机构,使得各压电陶瓷所受的正压力基本一致,从而使纳米位移执行器结构简单紧凑、装配简便以及抗干扰能力强;磁力预紧机构与直线运动负载台之间不产生摩擦力,增加了其负载能力。 | ||
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【主权项】:
1.一种具有毫米行程的单轴纳米位移执行器,其特征在于,包括直线导向底座、剪切压电陶瓷叠堆、光滑支撑块、磁力预紧机构及直线运动负载台,在直线导向底座的一侧设有梯形凹槽,在该梯形凹槽的两个斜面上设有两对剪切压电陶瓷叠堆,在剪切压电陶瓷叠堆的顶端设有光滑支撑块,在该直线导向底座与直线运动负载台之间设有相互吸引的磁力预紧机构;所述的直线运动负载台的截面为与该梯形凹槽配合的梯形台,该梯形台的两个斜面与所述的光滑支撑块顶端接触,该直线运动负载台与该直线导向底座之间通过磁力预紧机构的磁力相互吸引定位;通过精密电压控制电路给4个剪切压电陶瓷叠堆提供电压控制信号,该电压控制信号通过对剪切压电陶瓷叠堆电压位移曲线进行拟合后得到,从而实现剪切压电陶瓷叠堆的非线性修正以保证步进时所有剪切压电陶瓷叠堆移动距离的一致,从而实现纳米位移执行器的纳米级步进及毫米级行程;通过所述的剪切压电陶瓷叠堆进行位置的微调以保证正压力的一致。
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