[发明专利]共面电极蓝相液晶透镜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610564330.2 申请日: 2016-07-15
公开(公告)号: CN105929611B 公开(公告)日: 2019-02-01
发明(设计)人: 王华波;顾开宇;李应樵;张春光 申请(专利权)人: 宁波万维显示科技有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/29;G02F1/137;G02B27/22
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 岳昕
地址: 315104 浙江省宁波*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 共面电极蓝相液晶透镜及其制备方法,属于3D显示技术领域,本发明为解决向列相液晶透镜存在的响应速度慢带来动态图像模糊、液晶盒厚变化对电压及响应时间要求高及3D画面串扰等问题。本发明包括上基板、下基板、m组共面电极、绝缘阻隔条带和蓝相液晶层;上基板与下基板相对平行设置;上基板与下基板之间从左至右等间距设置m组共面电极,每相邻两组共面电极之间设置绝缘阻隔条带;共面电极由条状电极和公共电极平行构成,条状电极和公共电极均与上基板垂直,条状电极和公共电极之间填充蓝相液晶层。并设计两种制备方法来制备共面电极蓝相液晶透镜。
搜索关键词: 电极 液晶 透镜 及其 制备 方法
【主权项】:
1.共面电极蓝相液晶透镜的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:步骤A1、在下基板(102)镀预设高度H1的透明电极层(201)并在其表面形成光刻层(202),通过预设间距及宽度的掩膜板进行UV紫外曝光;该掩膜板的预设间距及宽度按共面电极的布局设计;步骤A2、在曝光后透明电极层蚀刻出m组共面电极,即预设高度H1、宽度L1的条状电极(104)和公共电极(103);步骤A3、然后在m组共面电极的间隙处填充预设高度H2的绝缘阻隔层,然后在绝缘阻隔层和m组共面电极的共同上表面涂布光刻层(202),通过另一预设间距及宽度的掩膜板进行二次UV紫外曝光;该另一预设间距及宽度的掩膜板的预设间距及宽度以挡住m组共面电极及相邻共面电极之间的间隙为标准设计;步骤A4、去除光刻层(202)并蚀刻出共面电极与绝缘阻隔条带(105)分布的图形;步骤A5、在上基板(101)上蚀刻有共面电极、绝缘阻隔条带(105),并在m组共面电极内部填充蓝相液晶材料,形成蓝相液晶层(106),制盒完成共面电极蓝相液晶透镜的制作,使得共面电极蓝相液晶透镜的上基板(101)与下基板(102)之间从左至右等间距设置m组共面电极,每相邻两组共面电极之间设置绝缘阻隔条带(105)。
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