[发明专利]一种用于制备减反射玻璃的蚀刻处理液

摘要

本发明涉及一种用于制备减反射玻璃的蚀刻处理液，由以下重量百分比的原料组成：H₂SO₄ 8.2‑9.6%、Na₂SiF₆  1.8‑2.2%、ZnCl₂ 4.5‑5.5%、NH₄HF₂ 21.5‑22.5%、CaF₂ 3.6‑4.2%、(NH₄)₂SO₄ 3.6‑4.2%、K₂SO₄ 2.1‑2.5%、十二烷基葡萄糖苷1.6‑1.8%、羟乙基纤维素2.2‑2.4%和水46‑50%。本发明的蚀刻处理液成本低且较稳定，利用本发明的蚀刻处理液制备减反射玻璃，可大幅度提高玻璃成品率，防眩效果好，并且蚀刻液处理液可回收，进行防污染处理或者回收利用。

主权项

一种用于制备减反射玻璃的蚀刻处理液，依照本蚀刻处理液制成的防眩玻璃，其透过率＞94.8%，且可大于98%；雾度＞1.4%；锐化＜72.2%，且可小于66.3%；光的反射率＜6.9%；其特征在于：蚀刻处理液由以下重量百分比的原料组成：H₂SO₄ 8.2‑9.6%、Na₂SiF₆ 1.8‑2.2%、ZnCl₂ 4.5‑5.5%、NH₄HF₂ 21.5‑22.5%、CaF₂ 3.6‑4.2%、(NH₄)₂SO₄ 3.6‑4.2%、K₂SO₄ 2.1‑2.5%、十二烷基葡萄糖苷1.6‑1.8%、羟乙基纤维素2.2‑2.4%和水46‑50%。