[发明专利]一种晶片的生产工艺在审

专利信息
申请号: 201610502304.7 申请日: 2016-06-30
公开(公告)号: CN107564798A 公开(公告)日: 2018-01-09
发明(设计)人: 曹建民 申请(专利权)人: 如皋市下原科技创业服务有限公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 226500 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种晶片的生产工艺,其包括酸洗、电镀、焊接、碱洗、绝缘保护和后处理六个工序。本发明的优点在于本发明晶片的生产工艺,先酸洗、再焊接、然后碱洗、最后绝缘保护,在焊接之前对芯片进行酸腐蚀,避免了酸洗过程中,焊料和引线中的金属杂质会和酸液反应,影响芯片的腐蚀速率;避免金属与酸反应生成的金属离子会附着在芯片表面,省去大量清洗过程,节约资源;避免产品的电性衰降和高温下发生热击穿等故障,提高产品的电性良率;同时,也使得排出的清洗液中金属含量降低,降低对土壤造的污染,从而有利于环境的保护。
搜索关键词: 一种 晶片 生产工艺
【主权项】:
一种晶片的生产工艺,其特征在于:其包括以下步骤:(1)酸洗:将晶片芯片放置在酸溶液内进行酸腐蚀,腐蚀时间为8min,酸温度控制在0~2℃之间;(2)电镀:酸洗后的晶片芯片经电镀,在晶片芯片表面形成金属保护层,镀层厚度为3~5µm;(3)焊接:将两金属引线电极、焊片和电镀后的晶片芯片装入工夹具内,送入焊接炉加温,温度控制在290℃,焊接时间为12min,使晶片芯片与金属引线连接;(4)碱洗:将焊接后的晶片芯片与金属引线放置在碱溶液内进行碱腐蚀,腐蚀时间为8min,碱温度控制在5℃之间;(5)绝缘保护:碱洗后,用相应治具上绝缘保护胶,再经固化工艺,促使绝缘保护胶完全固化;(6)后处理:对固化好的产品进行表面处理,再测试成品包装。
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