[发明专利]晶片接合方法及发光二极管的制作方法有效

专利信息
申请号: 201610500628.7 申请日: 2016-06-30
公开(公告)号: CN105957932B 公开(公告)日: 2018-10-09
发明(设计)人: 钟秉宪;盛翠翠;董仲伟;吴俊毅;吴超瑜;王笃祥 申请(专利权)人: 天津三安光电有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300384 天津*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供的晶片接合方法及发光二极管的制作方法,其透过预先改变异质材料在键合前的内应力,使得异质材料在键合后的翘曲度得以获得改善,所述晶片接合方法包括以下步骤:一种晶片接合的方法,包括步骤:(1)提供目标晶片和接合用晶片;(2)研磨接合用晶片的上表面,形成具有机械残留应力的粗糙面,使得所述接合用晶片呈现翘曲状态;(3)在所述接合用晶片上形成键合层;(4)将所述目标晶片与所述接合用晶片键合,所述接合用晶片的内应力抵消键合过程中因目标晶片与接合晶片的热膨胀系数不同所产生的内应力。
搜索关键词: 晶片 接合 方法 发光二极管 制作方法
【主权项】:
1.一种晶片接合的方法,包括步骤:(1)提供目标晶片和接合用晶片;(2)研磨所述接合用晶片的上表面,形成具有机械残留应力的粗糙面,使得所述接合用晶片呈现翘曲状态;(3)在所述接合用晶片的粗糙面上形成键合层;(4)将所述目标晶片与所述接合用晶片键合,所述接合用晶片的内应力抵消键合过程中因目标晶片与接合晶片的热膨胀系数不同所产生的内应力;(5)在所述接合晶片的下表面形成一具有张应力的电极层,所述电极层的张压力作用于其上结构,以抵消所述晶片接合后存在的压缩应力。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津三安光电有限公司,未经天津三安光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610500628.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top