[发明专利]光罩及彩膜基板的制作方法在审
| 申请号： | 201610494255.7 | 申请日： | 2016-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN105974728A | 公开（公告）日： | 2016-09-28 |
| 发明（设计）人： | 贾迎宾;黄长治;沈嘉文;贾森 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光罩及彩膜基板的制作方法。该光罩的透光区分为主透光区和副透光区，其中主透光区完全透光，副透光区部分透光，副透光区包围主透光区，副透光区包括：由内向外依次包围的多个不透光的遮光框，相邻的两个遮光框之间形成有透光的狭缝。本发明还提供了彩膜基板的制作方法。本发明的光罩及彩膜基板的制作方法可以通过调整副透光区中狭缝的宽度、数量、以及相邻两狭缝之间的间距来调整照射到副透光区上光线的干涉程度，从而控制对应于副透光区位置的色阻材料的曝光程度，制作出无重叠、关键尺寸偏移量小、牛角小、锥度角大、且膜面平整性好的色阻层。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 制作方法 | ||
【主权项】：
一种光罩，其特征在于，包括：透光区(10)、及包围所述透光区(10)的遮光区(20)；所述透光区(10)包括：完全透光的主透光区(11)、以及包围所述主透光区(11)的部分透光的副透光区(12)；所述副透光区(12)包括由内向外依次包围的多个不透光的遮光框(121)，相邻的两个遮光框(121)之间形成有透光的狭缝(122)。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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