[发明专利]切割晶片的方法有效
申请号: | 201610472879.9 | 申请日: | 2016-06-24 |
公开(公告)号: | CN106298464B | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 约尔格·奥特纳;迈克尔·勒斯纳;古德龙·施特兰茨尔;鲁道夫·罗特马勒 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;H01L21/3065;H01L21/78 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 朱胜;李春晖 |
地址: | 德国瑙伊*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 一种切割晶片的方法包括:提供晶片;以及蚀刻晶片,以使限定在晶片的内部区内的切口线区段之间的管芯单片化,并且使在切口线区段与晶片的圆周边缘之间的多个晶片边缘区域单片化。多个晶片边缘区域中的每一个通过如下切口线被单片化:切口线中的每条均在切口线区段之一的两个端点中的一个端点与晶片的圆周边缘之间延伸。 | ||
搜索关键词: | 切割 晶片 方法 | ||
【主权项】:
1.一种切割晶片的方法,所述方法包括:提供晶片;以及蚀刻所述晶片,以使限定在所述晶片的内部区内的切口线区段之间的管芯单片化,并且使在所述切口线区段与所述晶片的圆周边缘之间的多个晶片边缘区域单片化,其中,所述切口线区段包括N个平行切口线区段,其中,N为等于或大于3的整数,其中,所述多个晶片边缘区域中的一个或更多个通过如下切口线被单片化:所述切口线中的每条均在所述N个平行切口线区段中的每M个切口线区段的两个端点中的一个端点与所述晶片的圆周边缘之间延伸,并且其中,M为等于或大于2并且等于或小于N的整数。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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