[发明专利]多分散大粒径硅溶胶及其制备方法有效
| 申请号： | 201610382474.6 | 申请日： | 2016-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN106044786B | 公开（公告）日： | 2019-05-07 |
| 发明（设计）人： | 孔慧;刘卫丽;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | C01B33/14 | 分类号： | C01B33/14;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 张新鑫;许亦琳 |
| 地址： | 201506 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种多分散大粒径硅溶胶及其制备方法，其主要作为抛光液使用提高抛光速度，所述制备方法是采用以下方法制备的：以粒径为20nm‑30nm的单分散球形硅溶胶为晶种，搅拌并加热，同时向反应体系不断的滴加粒径为20nm‑30nm的单分散球形硅溶胶晶种和活性硅酸，在整体反应过程中采用加热浓缩法维持恒液位，期间，滴加无机碱稀溶液以保持体系的pH值在9.5~10.5，保温后冷却。采用本发明制备的硅溶胶能够有效的提高抛光速度，同时减少划痕产生。 | ||
| 搜索关键词： | 分散 粒径 硅溶胶 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种多分散大粒径硅溶胶的制备方法，其特征在于，所述制备方法：以粒径为20nm‑30nm的单分散球形硅溶胶为晶种，搅拌并同时加热，同时向反应体系以0.85‑1.85ml/min的速度连续不断地滴加粒径为20nm‑30nm的单分散球形硅溶胶晶种和以4‑10ml/min的速度滴加活性硅酸，在整体反应过程中采用加热浓缩法维持恒液位，同时滴加无机碱溶液以保持体系的pH值在9.5‑10.5，反应结束后保温，冷却,所述多分散大粒径硅溶胶的粒径分布范围为20nm‑95nm。
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