[发明专利]一种立方结构MgZnO薄膜及其制备方法、紫外探测器及其制备方法在审
| 申请号: | 201610381758.3 | 申请日: | 2016-06-01 |
| 公开(公告)号: | CN105951045A | 公开(公告)日: | 2016-09-21 |
| 发明(设计)人: | 韩舜;吕有明;曹培江;柳文军;曾玉祥;贾芳;刘新科;朱德亮 | 申请(专利权)人: | 深圳大学 |
| 主分类号: | C23C14/28 | 分类号: | C23C14/28;C23C14/08;G01J1/42 |
| 代理公司: | 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 | 代理人: | 王利彬 |
| 地址: | 518060 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本发明属于半导体材料制备领域,提供一种高Zn含量立方结构(200)MgZnO薄膜的制备方法,包括如下步骤:制备Mg0.4Zn0.6O陶瓷靶材;将衬底放入腔体内,加热衬底至300℃,和通入流量为10‑30sccm的氧气,使腔体压强为4Pa;采用所述靶材,在所述衬底上进行脉冲沉积,制得薄膜。本发明还提供了以所述薄膜为源材料制备的MSM结构紫外探测器及其制备方法,所述紫外探测器对250nm的日盲紫外光有最大的响应度,光响应截至边为330nm,因此所制备的紫外探测器可以探测250nm‑330nm的紫外光。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 立方 结构 mgzno 薄膜 及其 制备 方法 紫外 探测器 | ||
【主权项】:
一种立方结构MgZnO薄膜的制备方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:制备Mg0.4Zn0.6O陶瓷靶材;将衬底放入腔体内,加热衬底至300℃,和通入流量为10‑30sccm的氧气,使腔体压强为4Pa;以及采用所述靶材,在所述衬底上进行脉冲沉积,制得薄膜。
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