[发明专利]一种基于空间隔离的纳米颗粒原子层沉积装置及方法有效
申请号: | 201610371245.4 | 申请日: | 2016-05-30 |
公开(公告)号: | CN106048559B | 公开(公告)日: | 2018-08-31 |
发明(设计)人: | 陈蓉;巴伟明 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/02 |
代理公司: | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人: | 宋业斌 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于空间隔离的纳米颗粒原子层沉积装置及方法,本发明使待包覆的纳米颗粒随气流通过分布有多个电极的管路,颗粒经过电极时由于尖端放电作用带上同种电荷,从而使纳米颗粒间相互排斥,防止团聚,达到分散颗粒的目的,然后通过清洗区域或前驱体反应区域,实现纳米颗粒的均匀包覆。本发明采用空间隔离的原理,使原子层沉积不同过程互不影响,能实现常压下纳米颗粒的快速均匀包覆,提高了沉积薄膜的包覆率、均匀性以及粉体表面包覆的效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 空间 隔离 纳米 颗粒 原子 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于空间隔离的纳米颗粒原子层沉积装置,其特征在于,该沉积装置包括依次相连的五级管路单元,其中:第一、第三、第五级管路单元为清洗单元,其结构相同,均包括第一管路、氮气源(1)、第一粉体补给收集单元(4)和第二粉体补给收集单元(4'),所述氮气源(1)和第二粉体补给收集单元(4')与所述第一管路的两端相连,所述第一粉体补给收集单元(4)与所述第一管路相连,并位于所述氮气源(1)和第二粉体补给收集单元(4')之间;第二级管路单元为吸附单元,其包括第二管路和第一前驱体源(6),该第二管路的一端连接有氮气源,另一端与第三级管路单元的第一管路相连,并与第三级管路单元的第一粉体补给收集单元连通,该第二管路还与第一级管路单元的第一管路相连,并与第一级管路单元的第二粉体补给收集单元连通,所述第一前驱体源(6)与所述第二管路相连,并位于所述第三级管路单元的第一粉体补给收集单元与第一级管路单元的第二粉体补给收集单元之间;第四级管路单元为反应单元,其包括第三管路和第二前驱体源(7),该第三管路的一端连接有氮气源,另一端与第五级管路单元的第一管路相连,并与第五级管路单元的第一粉体补给收集单元连通,该第三管路还与第三级管路单元的第一管路相连,并与第三级管路单元的第二粉体补给收集单元连通,所述第二前驱体源(7)与所述第三管路相连,并位于所述第五级管路单元的第一粉体补给收集单元与第三级管路单元的第二粉体补给收集单元之间,所述第一管路、第二管路和第三管路中均设置有电极(3)和阀门(5)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的