[发明专利]磁控管组件及磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201610365254.2 | 申请日： | 2016-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN107435134B | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 刘菲菲;王宽冒 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种磁控管组件及磁控溅射设备。该磁控管组件包括安装背板和多个磁体组件，多个磁体组件按照预设排列方式安装在所述安装背板上，安装背板包括多个子安装背板；相邻两个子安装背板采用固定件进行可拆卸固定安装。本发明提供的磁控管组件，能够有效地模拟所有等离子体闭合路径长短所需的磁控管，因此应用该磁控溅射设备可满足不同等离子体闭合路径长短的要求，因而适用范围广。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控管 组件 磁控溅射 设备 | ||
【主权项】：
一种磁控管组件，包括安装背板和多个磁体组件，其特征在于，所述安装背板包括多个子安装背板；相邻两个所述子安装背板采用固定件进行可拆卸固定安装；所述多个磁体组件按照预设排列方式安装在所述安装背板上。
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