[发明专利]一种锗离子印迹聚合物的制备方法有效
申请号: | 201610315787.X | 申请日: | 2016-05-12 |
公开(公告)号: | CN105949389B | 公开(公告)日: | 2018-01-12 |
发明(设计)人: | 曹洪杨;刘志强;张魁芳;金明亚;朱薇;高远;陶进长;李伟;郭秋松 | 申请(专利权)人: | 广东省稀有金属研究所 |
主分类号: | C08F222/14 | 分类号: | C08F222/14;C08F220/56;B01J20/26;B01J20/30;B01D15/08 |
代理公司: | 广东世纪专利事务所44216 | 代理人: | 千知化 |
地址: | 510651 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种锗离子印迹聚合物的制备方法。其步骤如下将质量比四氯化锗和8‑羟基喹啉加入氯仿和甲醇的混合溶剂中,搅拌混合后,滴加浓盐酸,控制pH;按四氯化锗与丙烯酰胺质量比加入丙烯酰胺,搅拌混合,再依次加入乙二醇二甲基丙烯酸酯和偶氮二异丁腈;通入氩气,排除氧气,密闭容器下反应;反应结束后,冷却,过滤,用醋酸与乙醇混合液洗涤滤饼,再用水洗涤至无色,用无水乙醇浸泡后,减压下干燥,得到所述锗离子印迹聚合物。本发明是一种简单、高效、便捷的制备锗离子印迹聚合物的方法,本法制备的锗离子印迹聚合物对高酸度、高杂质、低锗离子浓度溶液中锗离子的萃取分离与富集具有显著效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 离子 印迹 聚合物 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种锗离子印迹聚合物的制备方法,其特征是步骤如下:将质量比1:2~6的四氯化锗和8‑羟基喹啉加入体积比1:0.5~2的氯仿和甲醇的混合溶剂中,搅拌混合10min后,滴加浓盐酸,控制pH为‑0.5~‑1.0;按四氯化锗与丙烯酰胺质量比1:0.5~2.5加入丙烯酰胺,搅拌混合2~4h,再按四氯化锗:乙二醇二甲基丙烯酸酯:偶氮二异丁腈质量比=1:7~20:0.3~2,依次加入乙二醇二甲基丙烯酸酯和偶氮二异丁腈;通入氩气,排除氧气,10min后停止通入氩气,密闭容器,在40~60℃下反应6~24h;反应结束后,冷却,过滤,用体积比=1:4醋酸与乙醇混合液洗涤滤饼,再用水洗涤至无色,用无水乙醇浸泡后,在80℃减压下干燥,得到所述锗离子印迹聚合物。
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