[发明专利]量子点光刻胶及其制备方法、显示基板和显示装置在审
| 申请号： | 201610282658.5 | 申请日： | 2016-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN105929635A | 公开（公告）日： | 2016-09-07 |
| 发明（设计）人： | 齐永莲;张斌;周婷婷 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/033;G02F1/1333;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种量子点光刻胶及其制备方法、显示基板和显示装置。该量子点光刻胶的制备方法，包括：混合量子点、光扩散材料和光刻胶母液，其中，对所述光扩散材料或所述量子点进行表面处理。用该量子点光刻胶的制备方法制备的量子点光刻胶可应用于显示装置中，光扩散材料能够将入射光线折射至量子点，使照射在量子点上的光线增多，可解决入射光利用率较低的问题，可增强显示装置的显示效果。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 光刻 及其 制备 方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】：
一种量子点光刻胶的制备方法，包括：混合量子点、光扩散材料和光刻胶母液，其中，对所述光扩散材料或所述量子点进行表面处理。
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