[发明专利]一种低温纳米疏水真空放电沉积镀膜方法

摘要

本发明涉及一种低温纳米疏水真空放电沉积镀膜的方法，其包括以下步骤：1)表面处理步骤，2)纳米疏水镀膜步骤。本发明还涉及一种用于镀膜的设备，所述设备设置有真空仓体，真空仓体内设置有样品台、加热装置、真空装置、高频和射频电极、至少5个进气口，在样品台上方30‑70mm位置设置有屏蔽钢网；真空仓体外部还设置有至少5个气体气源，气源上设置有调节流量的调节装置。

主权项

1.一种低温纳米疏水真空放电沉积镀膜的方法，其包括以下步骤：1)表面处理步骤:1a)将样品放入镀膜设备的真空仓体内，并进行抽真空操作；1b)打开氧气电磁阀，在真空仓体内通入氧气；1c)通入氧气后真空度会下降，待到真空度稳定后，接通并启动13.56MHz射频电源；1d)处理完成后，关闭氧气电磁阀和13.56MHz射频电源；2)纳米疏水镀膜步骤:2a)设置温度控制器2使样品3的温度被加热到50-100℃；2b)打开六氟化硫、甲烷和氩气氢气混合气电磁阀，在真空仓体内通入六氟化硫、甲烷和氩气氢气混合气；2c)通入六氟化硫、甲烷和氩气氢气混合气后真空度会下降，待到真空度稳定后，接通并启动13.56MHz射频电源以及300kHz高频电源；2d)处理完成后，关闭六氟化硫、甲烷和氩气氢气混合气电磁阀和13.56MHz射频电源以及300kHz高频电源，并接通大气。