[发明专利]一种3D显像材料及利用其制作立体图片的方法在审
| 申请号： | 201610230167.6 | 申请日： | 2016-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN105759433A | 公开（公告）日： | 2016-07-13 |
| 发明（设计）人： | 何炎权 | 申请（专利权）人： | 何炎权 |
| 主分类号： | G02B27/22 | 分类号： | G02B27/22 |
| 代理公司： | 北京金富邦专利事务所有限责任公司 11014 | 代理人： | 蔡志勇;邵长松 |
| 地址： | 518029 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种3D显像材料及利用其制作立体图片的方法，所述显像材料包括：透明片基，其底面为光滑平面；立体光栅层，其设置在所述透明片基表面，所述立体光栅层聚焦于所述透明片基的底面；显色涂层，其涂布在所述透明片基的底面；以及遮光涂层，其涂布在所述显色涂层表面，所述遮光涂层分布有多个用以使油墨渗透至显色涂层的纳米微孔。所述方法包括以下步骤：步骤1、将图像制作为3D图片文件；步骤2、将所述3D图片文件镜像后打印至所述3D显像材料的遮光涂层；步骤3、油墨通过所述遮光涂层的纳米微孔渗透至显色涂层显色，即得所述立体图片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显像 材料 利用 制作 立体 图片 方法 | ||
【主权项】：
一种3D显像材料，其中，所述显像材料包括：透明片基，其底面为光滑平面；立体光栅层，其设置在所述透明片基表面，所述立体光栅层聚焦于所述透明片基的底面；显色涂层，其涂布在所述透明片基的底面；以及遮光涂层，其涂布在所述显色涂层表面，所述遮光涂层分布有多个用以使油墨渗透至显色涂层的纳米微孔。
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