[发明专利]减少缘于有含铜合金部件处理室的铜污染的系统和方法有效
| 申请号： | 201610228014.8 | 申请日： | 2016-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN106057623B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 方浩全;丁易洪;张大卫 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;张静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及减少缘于有含铜合金部件处理室的铜污染的系统和方法。用于减少在衬底处理系统中的铜污染的系统和方法包括在衬底处理系统的处理室中的衬底上执行等离子体处理。部件被设置在所述处理室中并由包含铜的合金制成。所述等离子体处理使用包含氢分子的处理气体混合物。在所述衬底上执行所述等离子体处理之前并且在所述衬底被布置在处理室内之前，使用调节等离子体处理来调节在所述处理室中的部件，所述调节等离子体处理包括包含氧分子和形成气体的处理气体混合物。 | ||
| 搜索关键词： | 减少 缘于 铜合金 部件 处理 污染 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于减少在衬底处理系统中的铜污染的方法，其包括：在衬底处理系统的处理室中的衬底上执行等离子体处理，其中，被设置在所述处理室中的部件由包含铜的合金制成，其中，所述等离子体处理使用包含氢分子的处理气体混合物；以及在所述衬底上执行所述等离子体处理之前并且在所述衬底被布置在处理室内之前，使用调节等离子体处理来调节在所述处理室中的所述部件，所述调节等离子体处理包括包含氧分子和形成气体的处理气体混合物。
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