[发明专利]蒸镀掩模的制造方法及有机半导体元件的制造方法在审
申请号: | 201610206515.6 | 申请日: | 2013-01-11 |
公开(公告)号: | CN105870326A | 公开(公告)日: | 2016-08-17 |
发明(设计)人: | 武田利彦;西村佑行;小幡胜也 | 申请(专利权)人: | 大日本印刷株式会社 |
主分类号: | H01L51/00 | 分类号: | H01L51/00;C23C14/04;C23F1/02;H01L51/56 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 刘晓迪 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种即使在大型化的情况下也能够满足高精细化和轻量化二者的蒸镀掩模的制造方法、及可制造高精细的有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。通过如下的工序制造蒸镀掩模,即:准备在金属板的一面设有树脂层的带树脂层的金属板;相对于所述带树脂层的金属板的金属板,通过形成仅贯通该金属板的缝隙而形成带树脂层的金属掩模;然后,从所述金属掩模侧照射激光,在所述树脂层上纵横地形成多列与要蒸镀制作的图案对应的开口部,从而形成树脂掩模。 | ||
搜索关键词: | 蒸镀掩模 制造 方法 有机半导体 元件 | ||
【主权项】:
一种蒸镀掩模的制造方法,所述蒸镀掩模将设有缝隙的金属掩模、和位于所述金属掩模的表面且配置有与要蒸镀制作的图案相对应的开口部的树脂掩模层积而构成,所述蒸镀掩模的制造方法的特征在于,具备如下的工序:准备在所述金属掩模的一面设有树脂层的带树脂层的金属掩模;从所述带树脂层的金属掩模的所述金属掩模侧通过所述缝隙而照射激光,在所述树脂层上形成与要蒸镀制作的图案对应的开口部,从而形成树脂掩模;在所述形成的树脂掩模的所述开口部的端面形成包含金属、无机氧化物、无机氮化物中的任一种的阻挡层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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