[发明专利]保持装置、投射装置、测量装置以及保持方法在审
| 申请号： | 201610195677.4 | 申请日： | 2016-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN106019574A | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 小池香奈 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B26/02 | 分类号： | G02B26/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 周博俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种保持装置、投射装置、测量装置以及保持方法。该保持装置包括：支撑构件，支撑构件具有用于定位图案光产生单元的定位部分，被配置为支撑图案光产生单元；和固定构件，固定构件被配置为与图案光产生单元的外周接触以保持图案光产生单元，固定构件被固定到支撑构件。固定构件包括抵靠部分和弹性构件，抵靠部分被配置为与图案光产生单元的外周的部分接触，弹性构件被配置为将图案光产生单元的与抵靠部分接触的部分按压到抵靠部分上。 | ||
| 搜索关键词： | 保持 装置 投射 测量 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种用于保持图案光产生单元的保持装置，其特征在于包括：支撑构件，所述支撑构件具有用于定位图案光产生单元的定位部分，并且支撑图案光产生单元；以及固定构件，所述固定构件被配置为与图案光产生单元的外周的一部分接触以保持图案光产生单元，所述固定构件被固定到支撑构件，其中，所述固定构件包括：抵靠部分，所述抵靠部分被配置为与图案光产生单元的外周的一部分接触；以及偏置构件，所述偏置构件被配置为使图案光产生单元朝向抵靠部分偏置。
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