[发明专利]一种硅基混合集成雪崩光电探测器有效
申请号: | 201610149517.6 | 申请日: | 2016-03-16 |
公开(公告)号: | CN105789366B | 公开(公告)日: | 2017-07-28 |
发明(设计)人: | 尹冬冬;杨晓红;韩勤;何婷婷;吕倩倩 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0232 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 乔东峰 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种硅基混合集成雪崩光电探测器(APD),包括自下而上叠置的SOI(silicon‑on‑insulator)倒锥耦合结构、键合层、波导和光学匹配层,以及雪崩光电探测结构。波导和光学匹配层包括波导区和光学匹配区。本发明通过键合工艺构建。本发明采用倒锥模斑转换耦合结构和倏逝波光耦合方式来达到高效率耦合的目的;窄倍增层与窄吸收层使得该分离吸收电荷倍增区(SACM)APD可达到高速、低噪声光探测的目的;SOI倒锥耦合结构与雪崩光电探测结构键合的方式使得器件同时集中了二者的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 混合 集成 雪崩 光电 探测器 | ||
【主权项】:
一种硅基混合集成雪崩光电探测器,其特征在于,包括自下而上叠置的SOI倒锥耦合结构、BCB键合层、波导和光学匹配层,以及雪崩光电探测结构,波导和光学匹配层包括波导区和光学匹配区,所述SOI倒锥耦合结构包括硅衬底、二氧化硅埋氧层和顶层硅,二氧化硅埋氧层制作在硅衬底上,顶层硅制作在二氧化硅埋氧层上,所述雪崩光电探测结构位于光学匹配区上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的