[发明专利]多区反应器、包括该反应器的系统和使用该反应器的方法有效
| 申请号： | 201610141027.1 | 申请日： | 2016-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN105970187B | 公开（公告）日： | 2019-12-06 |
| 发明（设计）人： | C·L·怀特;M·维戈瑟;E·J·希罗;T·R·邓恩 | 申请（专利权）人： | ASMIP控股有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 丁晓峰<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及多区反应器、包括该反应器的系统和使用该反应器的方法。示例性多区反应器包括可移动的感受器组件和可移动的板。可移动的感受器组件和可移动的板能在反应器的反应区之间竖直地移动，以使基底暴露于多个过程或多种反应物。 | ||
| 搜索关键词： | 反应器 包括 系统 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种多区气相反应器，包括：/n多个竖直叠置的反应区，其中，每个反应区包括气体入口和排放出口中的一个或多个；/n可移动的板，其包括底部表面；以及/n可移动的感受器组件，其具有顶部表面，/n其中，可移动的加工区域包括所述底部表面、所述顶部表面和一个或多个反应区，/n其中，所述加工区域包括喷头气体分布系统和错流加工区域中的一个或多个。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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