[发明专利]大尺寸、细晶钼钽合金溅射靶材的制备方法有效

专利信息
申请号: 201610133824.5 申请日: 2016-03-10
公开(公告)号: CN105714253B 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 耿宏安 申请(专利权)人: 洛阳爱科麦钨钼科技股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;B22F3/04;B22F3/15
代理公司: 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙)41120 代理人: 苗强
地址: 471000 河南*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 大尺寸、细晶钼钽合金溅射靶材的制备方法,包括利用钢模和橡胶板结合进行冷等静压成型的步骤、烧结的步骤、校平整形的步骤、热等静压处理的步骤、轧制的步骤、机加工的步骤。生产出的靶材的晶粒尺寸小于50微米,且晶粒大小的变化维持在20%以内,在靶材平面方向和厚度方向上,晶粒均为均匀分布;靶材的相对密度>97%;而且,可以生产长度2m左右、宽度1.3m左右的大尺寸溅射靶材。
搜索关键词: 尺寸 细晶钼钽 合金 溅射 制备 方法
【主权项】:
大尺寸、细晶钼钽合金溅射靶材的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一、将钼粉和钽粉进行预处理后分别进行筛分,筛分后钽粉和钼粉的费氏粒度之比为1.6:1,将筛分后的钼粉和钽粉按照90~94:6~10的质量比球磨混合16h以上,制得钼钽混合粉料,备用;步骤二、根据所需压坯的目标尺寸,称取形成一个压坯所需的钼钽混合粉料的质量或容积,并制造成型内腔与钼钽混合粉料等体积的冷等静压模具,利用送粉器使钼钽混合粉料自由落入冷等静压模具的成型内腔中,冷等静压工艺条件为:在150~200MPa下保压5~10min;经过加工得到一序压坯,备用;步骤三、脱模,取出一序压坯,将一序压坯置于炉体中,以30~40℃/min的升温速率升温至2150~2200℃,并在该温度下保温8~9h后,随炉自然冷却至室温,取出坯体,备用;步骤四、将坯体置于校平模中进行校平后,将坯体置于整形模中进行整形,备用;步骤五、将坯体经表面处理后进行热等静压处理,得到二序坯体,备用;其中,热等静压工艺为:800~1000℃下预烧30min,然后升温升压至1450~1500℃、180~200MPa,保温保压1~3h;步骤六、在1400℃下沿二序坯体的纵向方向进行轧制,当二序坯体的一次变形量为20~60%时,在1200℃下沿二序坯体的横向方向进行轧制,当二序坯体的二次变形量为70%时,将二序坯体在1250℃下保温2h,备用;步骤七、对二序坯体进行机加工,使其外形达到目标外形尺寸,与背板连接,制成钼钽合金靶材。
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