[发明专利]金属图案外析出防止处理剂和使用了该处理剂的印刷电路板及封装件的制备方法有效
| 申请号： | 201610131098.3 | 申请日： | 2016-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN105970226B | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 田边克久;北岛晃太;染矢立志;小田幸典;能津雅浩 | 申请（专利权）人： | 上村工业株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/40 | 分类号： | C23F1/40;C23C18/20;H05K3/28 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 刘兵;严政 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种金属图案外析出防止处理剂和使用了该处理剂的印刷电路板及封装件的制备方法，本发明的金属图案外析出防止处理剂的特征在于，该处理剂含有过氧化氢和选自醛糖、醛糖酸、醛糖二酸及其盐、其内酯体中的一种以上的化合物，且该金属图案外析出防止处理剂的pH值为7.1以上。本发明的化学镀图案外析出防止处理剂以使用直接导致Pd残渣失活的过氧化氢为前提，抑制处理剂随时间劣化，具体而言，在抑制碱性条件下的过氧化氢的消耗的同时，抑制基底金属的溶解，能够除去引起化学镀的图案外析出的Pd残渣。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 图案 析出 防止 处理 使用 印刷 电路板 封装 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种金属图案外析出防止处理剂，其特征在于，该处理剂含有过氧化氢和选自醛糖、醛糖酸、醛糖二酸及其盐、其内酯体中的一种以上的化合物，且所述金属图案外析出防止处理剂的pH值为7.1以上。
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