[发明专利]一种光刻装置及光刻方法、显示基板的制作方法在审
| 申请号： | 201610077559.3 | 申请日： | 2016-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN105549337A | 公开（公告）日： | 2016-05-04 |
| 发明（设计）人： | 袁洪光;胡岩;张宇;赵吾阳;陆忠;熊黎;傅永义;张文轩;范真瑞 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光刻装置及光刻方法、显示基板的制作方法，涉及显示技术领域，以在简化显示基板制作过程时，提高显示面板的最小解像精度。该光刻装置包括激光发生单元、光线控制单元以及光线校正单元；激光发生单元用于发射激光束，光线控制单元用于按照目标图案改变激光束的传播方向，获取可控激光束；光线校正单元用于将可控激光束校正成用于对目标层进行光刻的光刻激光束。所述光刻方法使用上述技术方案提供的光刻装置。本发明提供的光刻装置用于显示基板的制作中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 装置 方法 显示 制作方法 | ||
【主权项】：
一种光刻装置，其特征在于，包括激光发生单元、光线控制单元以及光线校正单元；所述激光发生单元用于发射激光束；所述光线控制单元用于按照目标图案改变激光束的传播方向，获取可控激光束；所述光线校正单元用于将所述可控激光束校正成用于对目标层进行光刻的光刻激光束。
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