[发明专利]一种光刻装置及光刻方法、显示基板的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种光刻装置及光刻方法、显示基 板的制作方法。

背景技术

目前，在显示基板制作过程中一般采用阵列工艺在衬底基板上形成图案 化阵列，从而得到显示基板；这些显示基板种类比较多，例如常见的薄膜晶 体管阵列基板、有机发光二极管阵列基板或低温多晶硅阵列基板等。

而显示基板中每层膜层在具体制作时，一般包括成膜步骤、涂胶步骤、 光刻步骤、显影步骤以及刻蚀步骤，即先利用成膜步骤先形成一层薄膜，然 后利用涂胶步骤在该薄膜上涂布光刻胶，以形成涂胶层，并在光刻步骤中利 用曝光机和掩膜板对涂胶层进行光刻，使涂胶层中曝光的部分发生变性，接 着在显影步骤中通过显影液对光刻后的涂胶层进行显影，以除去涂胶层中发 生变性的部分，使涂胶层图案化，形成光刻胶阵列；最后利用刻蚀工艺刻蚀 薄膜，使薄膜图案化，形成与光刻胶阵列一致的薄膜阵列。

但是，由于不同型号的显示基板或同一型号的显示基板中各层薄膜阵列 的图案有着明显的差异，因此，光刻步骤中利用曝光机和掩膜板对涂胶层进 行光刻时，必须更换相应图案的掩膜板，才能形成对应尺寸和图案的薄膜阵 列；而且，由于在光刻步骤后，还必须经过显影步骤才能得到光刻胶阵列， 因此，显示基板的制作过程比较复杂，且在显影步骤中还要使用大量显影液， 以适应不同型号的显示基板中不同膜层的制作。另外，现有的光刻装置用于 显示面板中的显示基板制作时显示面板的解像度比较差，难以适应高分辨率 的显示面板对显示基板的要求。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光刻装置及光刻方法、显示基板的制作方法， 以在简化显示基板制作过程的前提下，使得光刻装置用于显示面板中的显示 基板制作时，提高显示面板的最小解像精度。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种光刻装置，包括激光发生单元、光线控制单元以及光线校正单元；

所述激光发生单元用于发射激光束；

所述光线控制单元用于按照目标图案改变激光束的传播方向，获取可控 激光束；

所述光线校正单元用于将所述可控激光束校正成用于对目标层进行光刻 的光刻激光束。

优选的，所述光线控制单元包括图案控制模块以及与所述图案控制模块 的输出端相连的光线方向调节模块；

所述图案控制模块用于生成所述目标图案，根据所述目标图案设定光线 调节方法；

所述光线方向调节模块用于根据所述光线调节方法调节所述激光束，使 所述激光束的传播方向改变，获取到所述可控激光束。

较佳的，所述光线方向调节模块为倾斜反射镜，所述图案控制模块的输 出端与所述倾斜反射镜的驱动端相连。

优选的，所述光线校正单元包括反射棱镜和平行光透镜；

所述反射棱镜用于将所述可控激光束反射至所述平行光透镜，可控激光 束穿过所述平行光透镜，以使所述可控激光束校正成所述光刻激光束。

优选的，所述光刻激光束与所述目标层的表面垂直。

优选的，所述光刻装置的数目为多个，每个所述光刻装置中的激光发生 单元分别与扫描控制单元相连；

所述扫描控制单元用于根据所述激光发生单元的视域范围和激光发生单 元的数目，获取每个所述激光发生器的扫描次数，以控制所述激光发生单元 的扫描次数。

本发明还提供一种光刻方法，使用上述技术方案所述的光刻装置对目标 层进行光刻，包括：

激光发生单元发射激光束；

光线控制单元按照目标图案改变激光束的传播方向，获取可控激光束；

光线校正单元将所述可控激光束校正成光刻激光束；

所述光刻激光束对目标层进行光刻，使目标层图案化。

优选的，所述光刻装置中的光线控制单元包括图案控制模块以及与所述 图案控制模块的输出端相连的光线方向调节模块；

所述光线控制单元按照目标图案改变激光束的传播方向的方法为：

所述图案控制模块生成所述目标图案，根据所述目标图案设定光线调节 方法；

所述光线方向调节模块根据所述光线调节方法调节所述激光束，使所述 激光束的传播方向改变，获取到所述可控激光束。

较佳的，所述光线调节方法包括不同扫描方向下的光线调节方法；