[发明专利]一种光刻装置及光刻方法、显示基板的制作方法

权利要求书

1.一种光刻装置，其特征在于，包括激光发生单元、光线控制单元以及 光线校正单元；

所述激光发生单元用于发射激光束；

所述光线控制单元用于按照目标图案改变激光束的传播方向，获取可控 激光束；

所述光线校正单元用于将所述可控激光束校正成用于对目标层进行光刻 的光刻激光束。

2.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述光线控制单元包 括图案控制模块以及与所述图案控制模块的输出端相连的光线方向调节模 块；

所述图案控制模块用于生成所述目标图案，根据所述目标图案设定光线 调节方法；

所述光线方向调节模块用于根据所述光线调节方法调节所述激光束，使 所述激光束的传播方向改变，获取到所述可控激光束。

3.根据权利要求2所述的光刻装置，其特征在于，所述光线方向调节模 块为倾斜反射镜，所述图案控制模块的输出端与所述倾斜反射镜的驱动端相 连。

4.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述光线校正单元包 括反射棱镜和平行光透镜；

所述反射棱镜用于将所述可控激光束反射至所述平行光透镜，可控激光 束穿过所述平行光透镜，以使所述可控激光束校正成所述光刻激光束。

5.根据权利要求1或4所述的光刻装置，其特征在于，所述光刻激光束 与所述目标层的表面垂直。

6.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述光刻装置的数目 为多个，每个所述光刻装置中的激光发生单元分别与扫描控制单元相连；

所述扫描控制单元用于根据所述激光发生单元的视域范围和激光发生单 元的数目，获取每个所述激光发生器的扫描次数，以控制所述激光发生单元 的扫描次数。

7.一种光刻方法，其特征在于，使用权利要求1、4-6中任一项所述的光 刻装置对目标层进行光刻，包括：

激光发生单元发射激光束；

光线控制单元按照目标图案改变激光束的传播方向，获取可控激光束；

光线校正单元将所述可控激光束校正成光刻激光束；

所述光刻激光束对目标层进行光刻，使目标层图案化。

8.根据权利要求7所述的光刻方法，其特征在于，所述光刻装置中的光 线控制单元包括图案控制模块以及与所述图案控制模块的输出端相连的光线 方向调节模块；

所述光线控制单元按照目标图案改变激光束的传播方向的方法为：

所述图案控制模块生成所述目标图案，根据所述目标图案设定光线调节 方法；

所述光线方向调节模块根据所述光线调节方法调节所述激光束，使所述 激光束的传播方向改变，获取到所述可控激光束。

9.根据权利要求8所述的光刻方法，其特征在于，所述光线调节方法包 括不同扫描方向下的光线调节方法；

所述图案控制模块将其中一种扫描方向下的光线调节方法发送给所述光 线方向调节模块；

所述光线方向调节模块根据其中一种所述扫描方向下的所述光线调节方 法调节所述激光束，使所述激光束的传播方向改变，获取到所述可控激光束；

使用所述光刻装置对目标层进行光刻的次数为多次：其中，

第一次使用所述光刻装置对目标层进行光刻时，激光发生单元发射的激 光束的能量最大；

每次使用所述光刻装置对目标层进行光刻时，所述图案控制模块发送给 所述光线方向调节模块的光线调节方法所对应的扫描方向不同。

10.根据权利要求7～9中任一项所述的光刻方法，其特征在于，所述激 光发生单元发出的激光束的能量为40μJ-50μJ或10μJ～20μJ。

11.根据权利要求7所述的光刻方法，其特征在于，所述激光发生单元 发出的激光束的波长为240nm-300nm。

12.一种显示基板的制作方法，包括成膜步骤、涂胶步骤和光刻步骤； 其特征在于，所述光刻步骤使用权利要求7～11中任一项所述的光刻方法。