[发明专利]沉积装置有效
| 申请号： | 201610073177.3 | 申请日： | 2016-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN106256924B | 公开（公告）日： | 2020-03-17 |
| 发明（设计）人： | 罗兴烈;李明基 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 沉积装置包括腔室、沉积源、两个以上的角度限制板以及捕集器，其中，腔室供衬底提供至其内部，并且腔室包括在所述衬底上执行沉积工艺的沉积区域和设置于所述沉积区域的至少一侧处的待机区域，沉积源设置于所述腔室内部并且排放沉积材料，两个以上的角度限制板布置成与所述沉积源相邻并且限制所述沉积材料的排放方向角度，捕集器覆盖所述沉积源的上方并且捕集未沉积到所述衬底上的多余的沉积材料。所述捕集器设置于所述待机区域。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 | ||
【主权项】：
一种沉积装置，包括：腔室，所述腔室供衬底提供至其内部，并且包括在所述衬底上执行沉积工艺的沉积区域和设置于所述沉积区域的至少一侧处的待机区域；沉积源，所述沉积源设置于所述腔室内部并且排放沉积材料；两个以上的角度限制板，所述两个以上的角度限制板布置成与所述沉积源相邻并且限制所述沉积材料的排放方向角度；以及捕集器，所述捕集器覆盖所述沉积源的上方并且捕集未沉积到所述衬底上的多余的沉积材料，其中，所述捕集器设置于所述待机区域。
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