[发明专利]一种磁控溅射装置

摘要

本发明涉及真空镀膜技术领域，公开了一种磁控溅射装置，该磁控溅射装置包括磁悬浮轨道和可沿磁悬浮轨道的延伸方向悬浮移动地安装于磁悬浮轨道的载板，载板设有用于与磁悬浮轨道之间产生悬浮磁力的磁轨，磁轨通过多个垫块安装于载板；其中，每一个垫块包括位于磁轨与载板之间的第一绝缘板块和第二绝缘板块，第二绝缘板块位于第一绝缘板块与载板之间；且，第一绝缘板块与磁轨之间通过第一固定件固定连接，第二绝缘板块与载板之间通过第二固定件固定连接，第二固定件与第一固定件不接触；第一绝缘板块与第二绝缘板块之间通过第三固定件固定连接，第三固定件与磁轨和载板都不接触。上述磁控溅射装置在工作过程中不易产生异常放电的现象。

主权项

一种磁控溅射装置，包括磁悬浮轨道和可沿所述磁悬浮轨道的延伸方向悬浮移动地安装于所述磁悬浮轨道的载板，所述载板设有用于与所述磁悬浮轨道之间产生悬浮磁力的磁轨，所述磁轨通过多个垫块安装于所述载板上；其特征在于，其中，每一个所述垫块包括位于所述磁轨与所述载板之间的第一绝缘板块和第二绝缘板块，所述第二绝缘板块位于所述第一绝缘板块与所述载板之间；且，所述第一绝缘板块与所述磁轨之间通过第一固定件固定连接，所述第二绝缘板块与所述载板之间通过第二固定件固定连接，所述第二固定件与所述第一固定件不接触；所述第一绝缘板块与所述第二绝缘板块之间通过第三固定件固定连接，所述第三固定件与所述磁轨和载板都不接触、且所述第三固定件与所述第一固定件和/或所述第二固定件不接触。