[发明专利]工艺气体供应部在审
申请号: | 201610069411.5 | 申请日: | 2016-02-01 |
公开(公告)号: | CN105839075A | 公开(公告)日: | 2016-08-10 |
发明(设计)人: | 延世熏;李裕进;李在鹤 | 申请(专利权)人: | TGO科技株式会社 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 姜虎;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及一种工艺气体供应部,其包括:外管,提供第一工艺气体流动所需的通道;第一内管,位于外管的内部,提供第二工艺气体流动所需的通道;气体反应部,位于外管的上部,收纳金属源,通过第二工艺气体和金属源反应,以生成第三工艺气体;第二内管,位于外管的内部,提供第三工艺气体流动所需的通道;第三内管,位于外管的内部,提供第四工艺气体流动所需的通道;至少一个第一气体喷射部,将在外管流动的第一工艺气体供应至外管外部的处理空间;至少一个第二气体喷射部,将在第二内管流动的第三工艺气体供应至外管外部的处理空间;至少一个第三气体喷射部,将在第三内管流动的第四工艺气体供应至外管外部的处理空间。 | ||
搜索关键词: | 工艺 气体 供应 | ||
【主权项】:
一种工艺气体供应部,其特征在于,包括:外管,提供第一工艺气体流动所需的通道;第一内管,位于所述外管的内部,提供第二工艺气体流动所需的通道;气体反应部,位于所述外管的上部,收纳金属源,通过所述第二工艺气体和所述金属源反应,以生成第三工艺气体;第二内管,位于所述外管的内部,提供所述第三工艺气体流动所需的通道;第三内管,位于所述外管的内部,提供第四工艺气体流动所需的通道;至少一个第一气体喷射部,将在所述外管内部流动的所述第一工艺气体供应至所述外管外部的处理空间;至少一个第二气体喷射部,将在所述第二内管内部流动的所述第三工艺气体供应至所述外管外部的所述处理空间;至少一个第三气体喷射部,将在所述第三内管内部流动的所述第四工艺气体供应至所述外管外部的所述处理空间。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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