[发明专利]一种光固化低介电常数含氟聚丙烯酸酯丙烯酸酯的制备方法有效
| 申请号： | 201610067054.9 | 申请日： | 2016-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN105622834B | 公开（公告）日： | 2018-09-21 |
| 发明（设计）人： | 何勇;高培;侯尊岩;聂俊 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C08F220/22 | 分类号： | C08F220/22;C08F220/28;C08F212/08;C08F212/14;C08F8/14 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种光固化低介电常数含氟聚丙烯酸酯丙烯酸酯的制备方法属于光固化技术领域，通过光固化技术固化成一种介电常数较低的聚合物材料。在聚合物中通过三氟甲基和苯环的引入增大了材料的自由体积、降低了分子极化率，从而达到降低介电常数的目的；通过引入具有光反应活性的基团使预聚物可以通过光固化技术固化成膜。此种含氟聚丙烯酸酯丙烯酸酯预聚物可以通过控制曝光条件形成具有特定形状的精细图案，聚合物具有较高的热稳定性、较低的介电常数。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光固化 介电常数 聚丙烯酸酯 丙烯酸酯 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种可光固化的低介电常数含氟聚丙烯酸酯丙烯酸酯预聚物，具有如下通式(I)所示结构：![]()
其中，w为0‑100的整数，x、y、z分别为20‑100的整数；R1为—H或者—CH3；R2为—CH2CF3或—CH2CF2CHFCF3，或![]()
![]()
R3为氢原子或![]()
或![]()
或![]()
其中n＝0‑8；R4为—H或者—CH3；R5为，其中![]()
m＝1‑8。
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