[发明专利]一种基于二硫化钼晶体管的闪烁体探测器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201610057643.9 申请日: 2016-01-27
公开(公告)号: CN105676259B 公开(公告)日: 2018-12-04
发明(设计)人: 苏晓 申请(专利权)人: 泉州市金太阳电子科技有限公司
主分类号: G01T1/202 分类号: G01T1/202;H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 362000 福建省泉州市鲤城区*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于二硫化钼晶体管的闪烁体探测器,所述闪烁体探测器包括一导电硅基底,所述导电硅基底背表面设有栅电极,正表面设有栅绝缘层,所述栅绝缘层上设有单层二硫化钼,所述单层二硫化钼两端设有源电极和漏电极,所述源电极和漏电极连接栅绝缘层;所述单层二硫化钼上设有闪烁体,所述闪烁体位于源电极和漏电极之间,所述闪烁体外包覆有保护层。本发明所述的基于二硫化钼晶体管的闪烁体探测器为光电晶体管并作为闪烁体探测器的光电转换器件,在单层二硫化钼上直接沉积闪烁体作为高能粒子接收体,具有灵敏度高,响度速度快,结构简单,成本低的特性。
搜索关键词: 一种 基于 二硫化钼 晶体管 闪烁 探测器 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种基于二硫化钼晶体管的闪烁体探测器的制作方法,其特征在于,所述闪烁体探测器包括一导电硅基底,所述导电硅基底背表面设有栅电极,正表面设有栅绝缘层,所述栅绝缘层上设有单层二硫化钼,所述单层二硫化钼两端设有源电极和漏电极,所述源电极和漏电极连接栅绝缘层;所述单层二硫化钼上设有闪烁体,所述闪烁体位于源电极和漏电极之间,所述闪烁体外包覆有保护层;其制作方法包括如下:1)提供一硅基底,正表面热氧化形成一定厚度的SiO2层作为栅绝缘层,背表面蒸镀形成栅电极;2)在栅绝缘层上转移单层二硫化钼,利用光刻技术在单层二硫化钼两端形成源电极和漏电极的图案化,并蒸镀沉积形成源电极和漏电极;3)在单层二硫化钼上形成闪烁体,在闪烁体外蒸镀形成保护层,即得到基于二硫化钼的闪烁体探测器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于泉州市金太阳电子科技有限公司,未经泉州市金太阳电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610057643.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top