[发明专利]等离子体处理装置有效
申请号: | 201610055894.3 | 申请日: | 2016-01-27 |
公开(公告)号: | CN105826155B | 公开(公告)日: | 2018-04-27 |
发明(设计)人: | 出口新悟;山田洋平 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人: | 龙淳,王雪燕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供在确保机械强度的同时,利用比较轻量的机构安装有金属窗的等离子体处理装置。在进行了真空排气的处理空间(100)内对被处理基板(G)执行等离子体处理的等离子体处理装置(1)中,金属制的处理容器(10)具有被处理基板(G)的载置台,在封闭形成于其上表面的开口的位置隔着绝缘部件(31)设置有导电性的金属窗(3)。上述金属窗(3)被配置于等离子体产生用的等离子体天线(5)的上方侧的顶板部(61)悬挂支承。并且,该顶板部(61)被具有横架部(71、711)和脚柱部(72)的骨架结构的顶板支承机构(7)悬挂支承。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种等离子体处理装置,其对进行了真空排气的处理空间内的被处理基板执行利用等离子体化了的处理气体进行的等离子体处理,所述等离子体处理装置的特征在于,包括:电接地的金属制的处理容器,其具有用于载置所述被处理基板的载置台,并且在与该载置台相对的上表面具有开口;导电性的金属窗,其配置于封闭所述处理容器的开口的位置而形成所述处理空间,并且以隔着绝缘部件与所述处理容器绝缘的状态设置;在所述金属窗的上方侧以与该金属窗相对的方式设置的,用于通过电感耦合将所述处理气体等离子体化的等离子体天线;金属窗支承机构,其包括以与所述金属窗相对的方式配置于等离子体天线的上方侧的顶板部和设置于该顶板部的用于悬挂支承所述金属窗的多个第一悬挂部;和骨架结构的顶板支承机构,其包括设置有用于从上方侧悬挂支承所述顶板部的多个第二悬挂部的横架部和用于支承所述横架部的脚柱部,所述横架部和所述脚柱部是与所述顶板部相比机械强度高的金属制部件,所述脚柱部设置在所述开口的周围的处理容器上。
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